過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌装置、株式会社メディカルシステムサービス

過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌装置

過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌法は、エチレンオキサイド滅菌法や高圧蒸気滅菌法などの従来の方法とは異なる機序で滅菌を行う滅菌法で、T. 0. Addy らによりI980年代に研究開発され)、日本へは1994年に導入されている。

過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌法は、「滅菌時間が短い(I時間前後)」「工アレーション不要 (滅菌後に有害物質が残らない)」「低温滅菌処理(約45。C)」「電源のみで稼働」などの特徴を持つ滅菌法である。

現在、この過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌法を用いた滅菌装置"ステラッド (STERRAD。)" は、日本を含む全世界の病院で広く用いられている。

また、この過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌法は、日本薬局方微生物殺滅法の一つとして記載されている。

過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌法について

1.プラズマプラズマは、固体、液体及び気体とは別の第4番目の物質状態として定義され、イオンや電予などの正、負の荷電粒子や中性子、分子などが混在する反応性の高い状態であり、強い磁界または電界で励起させることにより作り出すことができる。

プラズマは「高温プラズマ」と「低温プラズマ」の2つに分げられるが、被滅菌物に対する物理的影響の少ない低温のプラズマがこの滅菌法に利用されている。

低温プラズマの例としては、ネオンやオ一口ラがある
過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌法の場合、減圧された滅菌チャンバー内に気化した過酸化水素を導入した後、所定の圧力(陰E) 下でこのチャンバー内に高周波工ネルギーを加え低温プラズマを発生させる。

過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌法の滅菌原理

過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌法は気化した過酸化水素と、過酸化水素に高周波を加えプラズマ状態にすることにより生成される各種フリーラジカルなどの活性物質や紫外線などの複合作用により滅菌が達成されると考えられている。
滅菌工程管理上重要なパラメータとしては、「温度」「圧カ」「時間」「高周波出カ」である。

過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌法について

過酸化水素低温ガスプラズマ滅菌法の滅菌サイクル過酸化水素低温ガズプラズマ滅菌法の代表的な滅菌サイクルの、滅菌チャンバー内圧カと時間の関係を図Iに示す。
この滅菌サイクルは各ステップを経て、滅菌サイクルが進行する。

・減圧工程
規定の圧力まで滅菌チャンバー内の空気を脱気する。

・コンディショニング工程
(プリプラズマ工程) 滅菌チャンバー内に高周波工ネルギーを与え空気のプラズマ状態を作り出し，滅菌物の除湿と加温を行い，滅菌物を滅菌しやすい状態にする。

・注入工程・拡散工程
約58%過酸化水素溶液の入った専用過酸化水素ヵセットより、規定の量の過酸化水素水溶液が気化した状態でチャンバー内に注入される。
過酸化水素の拡散を促進するため規定の時間後 HEPA フィルターを通した清浄な空気がチャンバー内に導入される。
注入、拡散された過酸化水素の作用により一部微生物が殺滅される。

・プラズマ工程
再度減圧され、高周波工ネルギーが加えられ過酸化水素をプラズマ状態にする、生成された各種フリーラジカルなどの活性物質や紫外線などにより微生物は殺滅される。
・ベント工程
プラズマ工程終了時，高周波の印加が中止され，フリーラジヵルなどの活性種は水蒸気や酸素といった安定で安全な物質へと再結合する。
HEPA フィルターを通した空気が大気圧まで導入され滅菌サイクルは完了する、滅菌温度は45～50℃前後、滅菌に要する時間は機種によるが約I時間弱程度である。
滅菌後に有害物質が残らないことからエアレーションの必要はなく、被滅菌物は滅菌後すぐに使用できる。